ファインマスク

バンプマスク

高精度アディティブ法により製造される半田ペースト印刷用メタルマスクです。板厚精度、開口精度、位置精度に優れ、リピート製品においても高い再現性を誇ります。

主な特徴

  • 開口部の断面形状が滑らかで半田ペーストの抜け性が良い。
  • 開口寸法精度、位置精度に優れる。
  • 任意の版厚指定が可能な為、必要半田量への適応性が高い。

仕様

加工
限界値
公差
板厚 (μm) 15~ ±3
最小開口 (μm) 30~ ±3
テーパー・
(基板接触面―
スキージング面)(μm)
5~30
  • バンプマスクの開口ピッチ=100um,
    開口=φ84um, 板厚=15um
  • ウエハーバンプパターンピッチ=250um,
    高さ=110um
  • インナーバンプパターンピッチ=130um,
    高さ=35um

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